Правительственная инвестиционная комиссия во главе с министром регионального
развития РФ Дмитрием Козаком одобрила проект строительства фабрики по производству
микросхем с топологическим уровнем 65-45 нанометров на пластинах 300мм.
Проект был представлен компанией «Ситроникс-Нанотехнологии». Предполагается,
что государство выделит из Инвестиционного фонда Российской Федерации 26,9
млрд. рублей на строительство новой фабрики. Впервые проект был продемонстрирован
на Экономическом форуме в Сочи 2007, где получил одобрение инвестиционной
комиссии Министерства экономического развития и торговли РФ. Данный проект
предполагает создание в России производства микросхем, которое позволит
преодолеть технологическое отставание от ведущих мировых производителей
микроэлектроники и обеспечит российских потребителей современной компонентной
базой. Как показывает опыт таких стран, как Тайвань, КНР, Франция и США
строительство подобных фабрик имеет мультипликативный характер. Вокруг них
формируются экосистемы – «кремниевые долины», где активно развиваются высокие
технологии. Руководитель бизнес направления «Ситроникс Микроэлектронные
решения», в рамках которого реализуется проект, Геннадий Красников отметил:
«Мы последовательно реализуем планы по развитию микроэлектронного производства.
12 декабря мы открыли фабрику по производству микросхем с топологическим
уровнем 0,18 мкм в ОАО «НИИМЭ и Микрон». В то же время реализация таких
крупных и значимых для инновационного развития страны проектов, как строительство
фабрики 65-45 нанометров, без применения механизмов частно-государственного
партнерства невозможна».